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高品质的半导体设备和备件的快速供应
Allwin21 真空快速退火炉设备 Ac...
制造商:ALLWIN21 型号:AccuThermoAW820RV 设备状态:全新 工艺温度范围:400-1250℃选配高温模块1500℃ 适合材料:Si,GaAs,InP,GaN,SiC,GaInP,Glass 传片方式:...
等离子刻蚀设备AW-903ER Plasma ...
设备型号:AW-903ER 晶圆尺寸:/3″/4″/5″/6″ 主要应用:硅的氧化物,硅的氮化物
等离子刻蚀设备AW-901ER Plasma ...
完全代替Tegal901E 设备型号:AW-901ER 晶圆尺寸:/3″/4″/5″/6″ 主要应用:多晶硅,难熔金属硅化物和氮化物
全新研发生产磁控溅射镀膜PVD沉积...
Manufacturer:Allwin21Corp. Condition:New WaferSize:Small~8inch Waferloading:Manual,withLoadLock Cathodes:1~3xDeltaShapeOR1~4x8″CircleShape SputterMet...
等离子去胶清洗设备AW-105R Plas...
制造商:Allwin21 成色:全新设计制造 晶圆尺寸:2″/3″/4″/5″/6″ 传片系统:全自动,Allwin21自有技术,固态机械手传片系统 等离子电源:600WAir-CooledRF13.5...
桌面型多功能等离子去胶设备Ashe...
制造厂商:Branson 尺寸适用范围:小样片及8英寸以下圆片 传片方式:手动桶式 最多可放置75片6英寸圆片及100片4英寸圆片、25片8英寸圆片 交货期短,性价比高 空间小,...
真空快速退火炉设备AccuThermo A...
型号:AccuThermoAW820V真空 设备状态:全新自动传片 工艺温度:400-1250℃ 基底尺寸:4、6、8inch
快速退火炉设备AccuThermo AW820...
型号:AccuThermoAW820R常压 设备状态:全新自动传片 工艺温度:400-1250℃ 基底尺寸:4、6、8inch
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南京天微半导体有限公司闪耀 2026 九峰山论坛
2026-04-25
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SEMICON China 2026 圆满落幕Allwin21 携手深圳前道半...
2026-03-28
上海,2026年3月——全球半导体行业盛会SEMICONChina2026于上海新国际博览中心圆满落幕。Allwin21Corporation(以下简称Allwin21)携手深圳前道半导体设备有限公司(以下简称“深圳前道半导体”)重磅亮相本次展会,以国产...
守护科研基石 SITP上海技术物理研究所 快速退火炉RTP设...
2026-03-21
近日,南京天微半导体有限公司的专业服务团队,专程前往上海技术物理研究所嘉定区SITP,开展设备专项回访工作。此次回访不仅旨在保障设备稳定运行,更通过精准技术指导,为中心科研创新工作注入强劲技术支撑,赢得老师们高...
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